北京水影流芯科技申请位置波长双混Bin的流磁巨量转移装置及转移方法专利，实现Micro LED芯片超高效率、高精度的巨量转移

国家知识产权局信息显示，北京水影流芯科技有限公司申请一项名为“一种位置波长双混Bin的流磁巨量转移装置及转移方法”的专利，公开号CN122206045A，申请日期为2026年3月。

专利摘要显示，本发明提供了一种位置波长双混Bin的流磁巨量转移装置及转移方法，涉及芯片巨量转移技术领域，本发明设计与LED显示基板相匹配的阵列式微型方孔，对芯片进行预磁化处理克服其叠片效应，借助具有固‑液界面低表面张力且无导电性的超流体将芯片无损运载至方孔阵列，通过对带有磁密峰谷效应的大面积磁针阵列的控制将芯片精准牵引至方孔内，实现LED芯片的位置波长双混Bin，进而完成Micro LED芯片超高效率、高精度的巨量转移。本发明通过流体运载、方孔定位、磁针牵引的技术原理，实现数千万个LED芯片从生长基板高效、精准地转移到显示基板上，从而构建出高密度、高质量的显示阵列。

天眼查资料显示，北京水影流芯科技有限公司，成立于2024年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，北京水影流芯科技有限公司财产线索方面有商标信息4条，专利信息12条，此外企业还拥有行政许可1个。

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本文源自：市场资讯

作者：情报员